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尼康美国研究公司是尼康半导体公司的子公司，主要从事半导体光刻机相关的研究和开发公司。
“虽然如今157nm干式光刻机的制程工艺低于134nm浸没式光刻机，但干式光刻环境相对简单，不需要考虑液体介质的纯度、流动性、对光刻胶和晶圆的影响等相关问题，工艺控制相对容易，设备的维护和保养也相对简单一些；公司在157nm干式光刻路线上投入了近10亿美元巨资，掌握了核心技术，领先全球，虽然暂时处于劣势，但我们可以沿着既定的技术路线稳步推进，只要能率先研发成功45nm制程工艺的干式光刻机，就能一举扭转我们被动的现状，继续引领光刻机的发展方向；我们现在重新投入巨资开始研发浸没式光刻机，除了一直追赶BSEC和ASML外，也将面临BSEC拥有的多项核心技术专利限制，如浸没式双工作台系统核心技术专利，流体处理系统核心技术专利、折返式投影核心技术专利、纯净水介质核心专利，要是BSEC不给我们授权纯净水介质核心专利，请问诺利克先生如何解决纯净水介质核心专利难题？”
尼康半导体公司会长兼CEO森佳照明在尼康公司拥有超过25年的经验，在美国、欧洲和韩国的销售和营销方面担任过高层，深得前会长吉田一郎的赏识。
“会长，我听说，ASML如今等待BSEC的国际纯净水介质核心专利通过后授权，既然BSEC同意授权ASML，就会授权我们，BSEC当年拿到双工作台系统的国际专利后也授权给了我们。”
“诺利克先生，彼一时此一时，如今BSEC的技术实力快赶上了我们，独霸全球65nm制程工艺的市场份额，正是超过我们的最好时机，我们不能抱有侥幸心理。”
“我支持会长的意见，既然我们已经掌握了多项157nm干式光刻路线的核心技术，引领全球，我们还要加大投资，争取早日研发成功45nm制程工艺，就能重新夺回被BSEC抢走的高端芯片市场份额。”
尼康半导体公司副总裁兼尼康光刻机半导体研究所所长小川郁子，负责开发157nm干式光刻机的研发，支持森佳照明。
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