通过非球面镜改善相差，相比球面镜，柱镜片，抛物面透镜有更高的精度。
抛雾面透镜技术，相比球面透镜技术，复杂很多，加工难度高很多，加工成本也跟着上升。
导致抛物面透镜比球面透镜贵很多。 同时。
抛物面透镜也不完美。
非球面，光线在进入透镜的时候，折射角度会有所变化，会导致曝光区域的光强度分布不均。
导致图案畸形，或者不完全曝光。 这些都会影响光刻机的精度。
比抛物镜技术更先进的技术是布拉格透镜技术，能制造出一种有周期性变化折射率的光学元件。
这种技术出现在八九十年代。 制造技术更复杂。
成本更高。
万兴邦没有采用布拉格透镜技术，而是采用了更先进的非球面透镜技术。
万兴邦穿越之前，在繁华年代，最先进的光刻机使用的透镜，用的技术就是非球面透镜技术。 相比传统透镜。
非球面透镜技术优点很多，全方位超越传统透镜。
第二代光刻机的技术，不仅在六十年代是领先的，就算再过五六十年，很多技术也不过时。 同时。
第二代光刻机采用了接触式近场光刻技术。
而第一代光刻机，包括出口的阉割版，用的都是远场光刻技术。
远场光刻技术缺点非常明显。 首先受光的衍射限制。
应用远场光刻技术的光刻机，精度根本达不到纳米级别，造成传统光刻机无法应用在纳米领域。 也处理不了特征尺寸非常小或非常大的图案...
罪魁祸首就是光的衍射!
在加工特征尺寸非常小的图案的时候，由于光的衍射效应，造成分辨率有限，无法准确复制小尺寸结构。
加工特征尺寸非常大的图案的时候，又因为投影范围有限，无法覆盖足够大面积，也无法准确复制大尺寸结构。 其次是成本高。
传统光刻机因为技术限制，对原材料要求苛刻，符合加工条件的原材料价格一般都比较贵。 增加了加工成本。
刨除远场光刻技术的缺点。
第一代光刻机和出口阉割本光刻机，还有第二个致命缺点，就是加工的周期比较长。 处理复杂图案的时候，需要多次对准，多次曝光。
就延长了加工周期。 增加了时间成本。
要是芯片需要多层结构或多个工艺，加工中心还会进一步延长，导致加工的时间成本更高。