2013年，盛夏，深川。
启明芯中央研究院内，那间刚刚挂牌成立不久、
由顾维钧亲自坐镇指挥的启明芯-国家光刻材料联合实验室，
此刻正以前所未有的强度和效率，高速运转着。
来自华夏科学院化学所、华清大学、燕京大学等顶尖科研院所的数十位
国内最顶尖的化学材料科学家、高分子物理专家和光学工程博士，
与启明芯从全球招募或秘密“策反”来的十余位
曾在东瀛JSR、信越化学或M国陶氏化学等光刻胶巨头核心研发部门工作过的
资深配方工程师和工艺专家，以及芯影光材那批年轻但充满拼劲的本土研发团队，
共同组成了一支规模空前、也承载着整个华夏半导体产业在光刻胶领域“打破垄断、自主崛起”全部希望的——国家队！
他们的目标，只有一个——
在林轩提供的、那些看似天马行空却又直指核心的理论猜想和技术方向指引下，
并依托启明芯“伏羲”AI超算平台那近乎作弊般的强大分子模拟与配方优化能力，
在最短的时间内，研发出能够满足28纳米、14纳米、甚至7纳米工艺节点要求的、
拥有完全自主知识产权的国产高端ArF浸没式光刻胶！
并将其命名为——神农一号光刻胶配方！
这，是一场真正的、与时间赛跑、与技术壁垒赛跑、
更与国际巨头的全面封锁赛跑的——科技长征！
实验室的灯光，几乎从未在午夜十二点前熄灭过。
每一个小小的进步，都凝聚着无数科研人员的汗水与智慧。
光刻胶的核心，在于其核心光敏树脂的分子结构设计与精密合成。
传统的丙烯酸酯类聚合物，虽然工艺成熟、成本较低，
但在面对更小线宽、更高分辨率的挑战时，其在抗等离子体刻蚀能力、
以及线边缘粗糙度（LER）控制等方面的瓶颈，日益凸显。
东瀛和M国的巨头们，早已在该领域布局了密不透风的专利网络。
林轩直接跳过了这条拥挤的老路。